芬蘭KxS Technologies半導體晶圓化學監測儀

赫爾納供應芬蘭KxS Technologies半導體晶圓化學監測儀，德國總部直接采購，近30年進口工業品經驗,原裝產品,支持選型，為您提供一對一的解決方案：貨期穩定，報價，價格優，在中國設有8大辦事處提供相關售后服務。

芬蘭KxS Technologies是一家專注于工業過程測量技術研發和生產的企業。該公司提供的半導體晶圓制造用化學監測儀，主要用于半導體制造過程中各類化學藥液濃度的在線分析與控制。

一、產品類型

該品牌主要產品類型包括：

在線化學濃度監測儀

化學液混合配比控制系統

蝕刻工藝終點檢測系統

CMP slurry密度監測儀

高純化學品輸送監測系統

濕法工藝槽液濃度控制設備

二、主要型號

目前該品牌主要型號有：

DCM-10

RIM-S200

CCM-3000

SDS-500

EMM-400

SCM-200

WCM-1000

三、產品介紹

以DCM-10型號為例，該設備為在線式折射率監測儀，采用原位測量原理。通過測量液體的折射率變化來推算化學濃度，適用于多種半導體工藝藥液的實時監測。

主要技術參數：

測量范圍：1.3200-1.5300 RIU

測量精度：±0.0001 RIU

溫度補償范圍：0-100℃

過程連接：1/4" FNPT

接液材質：PTFE/哈氏合金

輸出信號：4-20mA/Modbus TCP

四、優勢特點

多化學品適應性：可測量HF、H2O2、NH4OH等多種半導體常用化學品

實時在線測量：直接安裝于工藝管道或槽體，實現不間斷監測

耐腐蝕設計：采用氟材料密封和耐腐蝕合金接液部件

溫度自動補償：內置溫度傳感器，自動校正溫度變化影響

數據通訊功能：支持標準工業通訊協議，便于系統集成

五、主要應用

CMP工藝中slurry濃度的在線監測與控制

濕法刻蝕工藝中蝕刻液濃度的實時監測

晶圓清洗過程中SC-1、SC-2等清洗液的濃度配比驗證

光刻膠去除工藝中化學藥液的活性維持

化學品配送系統的濃度校驗與質量控制

該類設備為半導體制造過程中的化學液濃度控制提供了測量手段，有助于保持工藝穩定性和產品良率。

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